Инновационные решения в области разработки и внедрения функциональных материалов

+7-499-641-5000

vk@in-cub.ru

Eng

Тонкие пленки

Измеритель поверхностного сопротивления Jandel, RMS-EL-Z

Система разработана для измерения сопротивления полупроводниковых пластин, слитков и напыленных пленок на различные подложки по технологии четырех точек с помощью специальной головки компании Jandel.

  • вырабатываемое напряжение от 0.01 мВ до1250 мВ
  • вырабатываемый постоянный ток от 10 нА до 99 мА
  • диапазон измерения поверхностного сопротивления от 1 мОм/площадь до 500 Мом/площадь
  • диапазон измерения удельного объемного сопротивления от 1 мОм*см до 1Мом*см
  • точность измерений - 0.3%
  • наличие встроенной памяти - 50 показаний
  • 4-х зондовая цилиндрическая головка измерения с интервалом между иглами 0.5 мм
  • рабочий столик для работы с образцами диаметром до 150 мм и габаритами Д не более 355 мм, Ш не более 215мм, В не более 195 мм
Плазменная система очистки поверхности подложек Deiner Electronic, ATTO I

10,5-литровая  лабораторная установка с полуавтоматическим управлением применяется для очистки, активации, а также травления поверхности.

  • Камера: материал стекло, Ø 211 мм, Г 300 мм
  • Объем камеры: ~ 10,5 литра 
  • Подвод газа: 2 регулятора расхода газа с игольчатыми клапанами
  • Генератор: 40 кГц /200 Вт или 13,56 мГц /50 Вт
  • Вакуумный насос:  2 м³/час
Центрифуга SPIN-1200T

Настольная лабораторная центрифуга для нанесения жидких материалов на планарные подложки.

  • Толщины наносимых слоев от 1000 А до 100 мкм
  • Размер подложек от 5х5 мм до 100 мм в диаметре
  • Ручное дозирование фоторезиста
  • Держатели подложек с вакуумным или механическим прижимом
  • Скорость вращения от 300 до 10000 об/мин +/-1% для не загруженного держателя
Установка электроспреевого осаждения ESPRAYER ES-2000S2
  • Модуль высокого напряжения от 3 кВ до 30 кВ
  • Величина потока от 0,1 мкл/мин до 1000 мкл/мин
  • Ток на форсунке – до 30 мкА
  • Напряжение на форсунке – до 30 кВ
  • Объем шприца – 5 мл
  • Максимальное количество шприцов - 3
  • Расстояние от шприца подложки до форсунки – от 50 мм до 250 мм
  • Запыляемая область подложки не более 200 x 200 мм
  • Движение распылителя (X,Y) – в диапазоне 200 × 200 мм
  • Контролируемое движение распылителя (по оси Z) - от 50 до 200 мм
  • Движение столика со скоростью от 0.1 мм/с до 100 мм/с
  • Возможность контролируемого создания трафарета на поверхности подложки из не более 99 точек
  • Возможность нагрева до температуры в диапазоне от 20˚С до 60˚С
  • Измерение температуры в диапазоне от 0˚С до 99˚С с точностью не хуже 2˚С
  • Измерение влажности в диапазоне от 2 % до 100 % с точностью не хуже 5 %
Вакуумная напылительная система  на платформе VSR (Робвак, Россия)

Многофункциональная установка для нанесения металлических и диэлектрических слоев методом магнетронного/резистивного напыления.

  • Водохлаждаемая вакуумная камера D-типа с размерами 400x700мм, электрополированная.
  • Турбомолекулярный насос с производительностью 2000 л/с.
  • Ввод вращения с уплотнением магнитной жидкостью Rigkau.
  • Резистивные термоиспарители (3кВт) – 3 шт.
  • Контроллер толщины пленки Sycon STC2000
  • Планетарный механизм
  • Двухканальный газовый натекатель Alicat Scientific c графическим дисплеем для удаленного управления
  • ВЧ генератор мощностью 1 кВт.
Новости